第34回
| 第34回 市村産業賞の受賞者は次のとおりです。 |
【功績賞】 |
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 携帯電話端末用ヘテロ接合ＦＥＴの開発と実用化 | 技術開発者 | |
| 日本電気株式会社 | 葛原 正明 | |
| NEC化合物 デバイス株式会社 |
岩田 直高 | |
| 伊東 朋弘 | ||
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| テラビット級超大容量光波長多重伝送システムの開発と実用化 | 技術開発者 | |
| 富士通株式会社 | 沖野 孝之 | |
| 丸橋 大介 | ||
| 株式会社富士通研究所 | 山口 伸英 | |
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| シリコン窒化膜を用いたロジック混載用不揮発性メモリ技術の開発と実用 | 技術開発者 | |
| 株式会社日立製作所 | 南 眞一 | |
| 株式会社日立超LSI システムズ |
長崎 信孝 | |
| 香川大学工学部 | 神垣 良昭 | |
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 原子間力プローブ搭載超高精度三次元測定機の開発と実用化 | 技術開発者 | |
| 松下電器産業株式会社 | 吉住 恵一 | |
| 久保 圭司 | ||
| 竹内 博之 | ||
【貢献賞】 |
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 次世代誘電体メモリ製造用CVD技術の開発 | 技術開発者 | |
| 三菱電機株式会社 | 松野 繁 | |
| 内川 英興 | ||
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 超音波検査用複合圧電振動子の開発 | 技術開発者 | |
| 住友電気工業株式会社 | 高田 博史 | |
| 平田 嘉裕 | ||
| 沼澤 稔之 | ||
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 画期的な溶接施工を実現した高性能60キロ厚鋼板の開発 | 技術開発者 | |
| 住友金属工業株式会社 | 藤原 知哉 | |
| 川畑 友弥 | ||
| 渡辺 祐一 | ||
| 受賞対象開発テーマ | 受 賞 者 | |
|---|---|---|
| 制御圧延・冷却技術を駆使した地球環境に貢献できる線材新製品の開発 | 技術開発者 | |
| 株式会社神戸製鋼所鉄鋼部門 | 池田 辰雄 | |
| 市田 豊 | ||
| 土井 健司 | ||
