第95回新技術開発-04
半導体ウェハー生産用プラズマ加工装置の異常放電監視技術の実用化
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技術開発内容 |
半導体ウェハーをはじめ、液晶ディスプレイやLEDなどの製造過程における表面処理工程では、プラズマを用いたエッチングやコーティングが行われている。これらの工程において何らかの原因によりプラズマの発生が不安定となった場合、異常な放電が発生して、製品にダメージを与え、大きな損害につながる。本新技術開発は、その異常放電の予兆を磁界プローブにより検出し、プラズマ発生電源を安全に制御することで、異常放電を回避するシステムの開発に関わる(図1)。具体的には、プラズマ発生装置の異常放電として、Arc放電の予知波であるPre-Townsend放電を磁界プローブにより検出し、プラズマ発生電源の制御により異常放電を制圧し、不良を未然に防ぐためのシステム構築につながる監視装置の開発を主に進める。本新技術開発により、異常放電予知波の検出技術に一層の競争力を与えるとともに、半導体の大幅な積層化、多層化やLEDの高度化に伴う高付加価値化に十分に対応し、当該業界ならびに社会への貢献が期待できる。
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